NANOMAP500LS輪廓儀/三維形貌儀，既有高精密度和準(zhǔn)確度的局部（Local）SPM掃描，又具備大尺度和高測量速度；既可用來獲得樣品表面垂直分辨率高達(dá)0.05nm的三維形態(tài)和形貌，又可以定量地測量表面粗糙度及關(guān)鍵尺寸，諸如晶粒、膜厚、孔洞深度、長寬、線粗糙度、面粗糙度等，并計(jì)算關(guān)鍵部位的面積和體積等參數(shù)。樣件無須專門處理，在高速掃描狀態(tài)下測量輪廓范圍可以從1nm到10mm。該儀器的應(yīng)用領(lǐng)域覆蓋了薄膜/涂層、光學(xué)，工業(yè)軋鋼和鋁、紙、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介質(zhì)和半導(dǎo)體等幾乎所有的材料領(lǐng)域。

美國AEPTechnology公司主要從事半導(dǎo)體檢測設(shè)備，MEMS檢測設(shè)備，光學(xué)檢測設(shè)備的生產(chǎn)制造，是表面測量解決方案行業(yè)的領(lǐng)先供應(yīng)者，專門致力于材料表面形貌測量與檢測。

NANOMAP500LS輪廓儀/三維形貌儀技術(shù)特點(diǎn)

常規(guī)的接觸式輪廓儀和掃描探針顯微鏡技術(shù)的完美結(jié)合。

雙模式操作（針尖掃描和樣品臺(tái)掃描），即使在長程測量時(shí)也可以得到最優(yōu)化的小區(qū)域三維測圖。

針尖掃描采用精確的壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)掃描模式，三維掃描范圍從10μmX10μm到500μmX500μm。樣品臺(tái)掃描使用高級別光學(xué)參考平臺(tái)能使長程掃描范圍到50mm。

在掃描過程中結(jié)合彩色光學(xué)照相機(jī)可對樣品直接觀察。

針尖掃描采用雙光學(xué)傳感器，同時(shí)擁有寬闊測量動(dòng)態(tài)范圍（最大至500μm）及亞納米級垂直分辨率（最小０.１nm）

軟件設(shè)置恒定微力接觸。

簡單的2步關(guān)鍵操作，友好的軟件操作界面。

應(yīng)用
 

三維表面輪廓測量和粗糙度測量，即適用于精密拋光的光學(xué)表面也可適用于質(zhì)地粗糙的機(jī)加工零件。

薄膜和厚膜的臺(tái)階高度測量。

劃痕形貌，磨損深度、寬度和體積定量測量。

空間分析和表面紋理表征。

平面度和曲率測量。

二維薄膜應(yīng)力測量。

微電子表面分析和MEMS表征。

表面質(zhì)量和缺陷檢測。