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    無錫市奧宏環(huán)保設(shè)備有限公司

    主營:電鍍設(shè)備
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    [供應(yīng)]黑鋅機(jī)械手鈍化設(shè)備 生產(chǎn)線 流水線 電鍍線 奧宏環(huán)保
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    • 產(chǎn)品產(chǎn)地:江蘇無錫
    • 產(chǎn)品品牌:奧宏環(huán)保
    • 包裝規(guī)格:黑鋅機(jī)械手鈍化設(shè)備
    • 產(chǎn)品數(shù)量:10
    • 計量單位:套
    • 產(chǎn)品單價:100000
    • 更新日期:2019-05-24 09:34:14
    • 有效期至:2020-05-23
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    黑鋅機(jī)械手鈍化設(shè)備 生產(chǎn)線 流水線 電鍍線 奧宏環(huán)保 詳細(xì)信息

    全自動機(jī)械手鈍化設(shè)備


    基本含義:  
      
    鈍化,金屬由于介質(zhì)的作用生成的腐蝕產(chǎn)物如果具有致密的結(jié)構(gòu),形成了一層薄膜(往往是看不見的),緊密覆蓋在金屬的表面,則改變了金屬的表面狀態(tài),使金屬的電極電位大大向正方向躍變,而成為耐蝕的鈍態(tài)。如Fe→Fe時標(biāo)準(zhǔn)電位為-0.44V,鈍化后躍變到+0.5~1V,而顯示出耐腐蝕的貴金屬性能,這層薄膜就叫鈍化膜。


    金屬的鈍化也可能是自發(fā)過程(如在金屬的表面生成一層難溶解的化合物,即氧化物膜)。在工業(yè)上是用鈍化劑(主要是氧化劑)對金屬進(jìn)行鈍化處理,形成一層保護(hù)膜。


    常見例子:冷濃liu酸、冷濃xiao酸與鐵、鋁均可發(fā)生鈍化。


    腐蝕定義:


    腐蝕是一種電化學(xué)變化過程,未經(jīng)處理的金屬表面存在少量電離子,這些電離子會由高電位區(qū)(陰極)向低電位區(qū)(陽極)移動,因此產(chǎn)生電流。在此電流的作用下會加速對金屬破壞性的攻擊而在金屬電位薄弱的部位產(chǎn)生腐蝕,通俗的說就是生銹。




    鈍化原理:


    其鈍化的機(jī)理可用薄膜理論來解釋,即認(rèn)為鈍化是由于金屬與氧化性物質(zhì)作用,作用時在金屬表面生成一種非常薄的、致密的、覆蓋性能良好的、牢固地吸附在金屬表面上的鈍化膜。這層膜成獨(dú)立相存在,通常是氧化金屬的化合物。它起著把金屬與腐蝕介質(zhì)完全隔開的作用,防止金屬與腐蝕介質(zhì)接觸,從而使金屬基本停止溶解形成鈍態(tài)達(dá)到防腐蝕的作用。
    一種活性金屬或合金,其中化學(xué)活性大大降低,而成為貴金屬狀態(tài)的現(xiàn)象,叫鈍化。金屬由于介質(zhì)的作用生成的腐蝕產(chǎn)物如果具有致密的結(jié)構(gòu),形成了一層薄膜(往往是看不見的),緊密覆蓋在金屬的表面,則改變了金屬的表面狀態(tài),使金屬的電極電位大大向正方向躍變,而成為耐蝕的鈍態(tài)。


    與防銹油:


    鈍化與防銹油主要的區(qū)別是生成產(chǎn)物不一樣防銹油是利用油膜封閉金屬表面的氣孔達(dá)到隔離與氧氣接觸而有效防止生銹的作用,實際上沒有發(fā)生什么反應(yīng)。油膜比較容易隨著生產(chǎn)的進(jìn)行而被清除、破壞的失效而鈍化是利用鈍化液中的氧化性物質(zhì)與金屬產(chǎn)生氧化還原反應(yīng),促使在金屬表面生成一層金屬的氧化物、達(dá)到有效保護(hù)金屬的目的。這一過程屬于化學(xué)反應(yīng)。產(chǎn)生的鈍化膜致密、完整不易被破壞。


    鈍化優(yōu)點:
    1)與傳統(tǒng)的物理封閉法相比,鈍化處理后具有不增加工件厚度和改變顏色的特點、提高了產(chǎn)品的精密度和附加值,使操作更方便


    2)由于鈍化的過程屬于無反應(yīng)狀態(tài)進(jìn)行,鈍化劑可反復(fù)添加使用,因此壽命更長、成本更經(jīng)濟(jì)。


    3)鈍化促使金屬表面形成的氧分子結(jié)構(gòu)鈍化膜、膜層致密、性能穩(wěn)定,并且在空氣中同時具有自行修復(fù)作用,因此與傳統(tǒng)的涂防銹油的方法相比,鈍化形成的鈍化膜更穩(wěn)定、更具耐蝕性。


    在氧化層中大部分的電荷效應(yīng)是直接或間接地同熱氧化的工藝過程有關(guān)的。在800-1250~C的溫度范圍內(nèi),用干氧、濕氧或水汽進(jìn)行的熱氧化過程有三個持續(xù)的階段,首先是環(huán)境氣氛中的氧進(jìn)入到已生成的氧化層中,然后氧通過2氧化硅向內(nèi)部擴(kuò)散,當(dāng)它到達(dá)Si02-Si界面時就同硅發(fā)生反應(yīng),形成新的2氧化硅。這樣不斷發(fā)生著氧的進(jìn)入-擴(kuò)散-反應(yīng)過程,使靠近界面的硅不斷轉(zhuǎn)化為2氧化硅,氧化層就以一定的速率向硅片內(nèi)部生長。


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