光亮鍍鎳工藝特點：
具有快速光亮及填平能力，沉積速度快
鍍層柔軟，色澤白亮美觀
高均鍍能力，低電位覆蓋能力極強。
操作范圍寬，單一光亮劑添加，容易控制 雜質(zhì)容忍度高
適合作為鍍鉻、青銅、金、銀等金屬之光亮鎳底層。
對于大部分鍍鎳工藝可直接補充此光亮劑，進行轉(zhuǎn)缸


光亮鍍鎳鍍液配制方法：
在預備槽中注入三分之二的水，加熱水至65－70℃；加入所需的硫酸鎳及氯化鎳，攪拌使其完全溶解，加入碳酸鎳或4%的氫氧化鈉溶液，調(diào)整酸堿度為5.2。
加入2.5毫升/升的雙氧水（先用水稀釋）和2.5克/升的活性碳，攪拌數(shù)小時后靜置整晚，然后將鍍液濾入清潔的電鍍槽中；再將過濾泵清洗干凈，裝上活性碳備用。
加入所需的硼酸，再用稀硫酸調(diào)整鍍液的PH值至4.0。
用波浪狀的假陰極，以低電流密度（0.1－0.5安培/平方分米）連續(xù)電解12小時以上，或直到低電位顏色由暗黑色變淺灰色。
最后加入以上的各種添加劑，便可以開始。