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[供應]供中山?jīng)_棒耐沖壓.耐磨損表面處理加工.TIN涂層.PVD涂層
- 產(chǎn)品產(chǎn)地：東莞
- 產(chǎn)品品牌：旭瑞
- 包裝規(guī)格：XR
- 產(chǎn)品數(shù)量：1000000
- 計量單位：件
- 產(chǎn)品單價：1
- 更新日期：2019-10-07 16:36:11
- 有效期至：2019-11-07
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供中山?jīng)_棒耐沖壓.耐磨損表面處理加工.TIN涂層.PVD涂層
詳細信息
金屬表面處理PVD鍍 膜特點：增壽、增硬、增值，并以其硬高度、高耐磨、強抗腐蝕性、抗高溫、抗黏著性等優(yōu)越的使用性能廣泛應用于模具工業(yè)中。
PVD是英文PhysicalVaporDeposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用真空鍍膜設備氣體放電使鈦板蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍 膜通常稱謂：金屬表面處理，鍍膜，鍍鈦，真空鍍膜，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工，真空鍍膜加工，表面 處理等.
TiN涂層
TiC（碳化鈦），TiN（氮化鈦）等堅硬物質(zhì)的涂層方法大致有兩種，化學氣相沉積法（CVD法）和物理氣相沉積法（PVD法）。
化學氣相沉積法的溫度為900-1100℃，已超過了高速鋼的回火溫度，所以不能用于高速鋼的表面涂層。
物理氣相沉積法溫度較低，在500℃以下，適合對高速鋼絲錐，銑刀的涂層，物理氣相沉積法中***具代表性，***常用的是HCD離子電鍍工藝。
HCD離子電鍍工藝的基本過程是：把涂層材料鈦（Ti）放于高真空槽內(nèi)的坩中，用電子射線讓它熔解并與氮氣反應，使之在已預熱且受負電壓作用下的刀具表面上生成細密。牢固的氮化鈦（TiN）涂層，TiN涂層呈金黃色，與刀具母體的密著性很好。、
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