半導體清洗劑 配方分析 成分分析 
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  半導體清洗劑主要用于清洗表面沾污有石蠟、油脂和油脂類高分子化合物以及表面沾污有金屬原子和金屬離子等。
  半導體清洗劑主要有表面活性劑、增效劑及有機溶劑等成分，經(jīng)科學加工制備而成。具有水溶性好、滲透力強等優(yōu)點。能有效去除半導體工藝中的材料和器材，薄膜工藝中的玻璃和金屬表面上玷污的有機物、灰塵等。 有效消除靜電，然后通過噴淋和烘干使器件表面潔凈，達到無有機物和灰塵粘附的效果。不污染環(huán)境，不易燃燒，屬于非破壞臭氧層物質(zhì)，清洗后的廢液便于處理排放，能夠滿足環(huán)保三廢排放要求。
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