矩管內(nèi)表面機(jī)械拋光：有旋轉(zhuǎn)與直線拋光。這里以旋轉(zhuǎn)機(jī)械拋光為例：機(jī)械拋光設(shè)備較為簡(jiǎn)單 動(dòng)力與拋光盤(pán)、高級(jí)拋光設(shè)備較為簡(jiǎn)單，動(dòng)力與拋光盤(pán)、高級(jí)拋光蠟。采用逐級(jí)細(xì)砂粒作的布盤(pán)與布盤(pán)在管內(nèi)外表面上來(lái)回多次多道進(jìn)行拋光處理，光潔度能達(dá)到Ra≤0.2-0.4μm。 機(jī)械拋光與電解拋光相比較具有設(shè)備簡(jiǎn)單、技術(shù)含量低容易掌握，費(fèi)用成本也低，不會(huì)破壞管而造成報(bào)廢，因此廣泛地應(yīng)用。但表面印化層耐腐蝕能力電解拋光要好的多。

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