真空鍍膜主要利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽(yáng)離子會(huì)加速?zèng)_向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面，這個(gè)沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。

鼎偉新材料專業(yè)提供貴金屬：金、銀、鉑、釕、銠、鈀、鋨、銥靶材蒸發(fā)顆粒貴金屬合金靶材


規(guī)格：（平面圓靶，方靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做）最薄0.1MM
     
 QQ：2403641893 肖斌18681059472 0769-88039551
 網(wǎng)站：ganguo586 

貴金屬：金、銀、鉑、釕、銠、鈀、鋨、銥
高純金：金靶、金粒、金絲、金電極、金片、金粉
純度：3N、3N5、4N、4N5、5N
規(guī)格：金靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做）  金粒（規(guī)格Φ2*5mm，Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）
   金絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）
   金片（根據(jù)客戶要求定做）
   金粉（根據(jù)客戶要求定做）
————————————————————————————————
高純銀：銀靶、銀粒、銀絲、銀電極、銀片、銀粉
純度：3N、3N5、4N、5N
規(guī)格：銀靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做）  銀粒（規(guī)格Φ2*5mm，Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）
   銀絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）
   銀片（根據(jù)客戶要求定做）
   銀粉（根據(jù)客戶要求定做）
 
高純鉑：鉑靶、鉑粒、鉑絲、鉑電極、鉑片、鉑粉
純度：3N、3N5、4N、4N5、5N
規(guī)格：鉑靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做）  鉑粒（規(guī)格Φ2*5mm，Φ2*10mm，其他規(guī)格定做）
   鉑絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規(guī)格定做）
   鉑片（根據(jù)客戶要求定做）
     鉑粉（根據(jù)客戶要求定做）
高純Ru釕：釕靶、釕粒、釕塊、釕片、釕粉
純度：3N、3N5、4N、4N5
規(guī)格：釕靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做）  釕塊（不規(guī)則塊狀，塊狀大小可根據(jù)客戶要求）
     釕粉（根據(jù)客戶要求定做）
高純Rh銠：銠靶、銠粒、銠塊、銠粉
純度：3N、3N5、4N
規(guī)格：銠靶（平面圓靶，方靶，旋轉(zhuǎn)靶，臺(tái)階靶均可加工，規(guī)格按客戶要求定做）  銠塊（不規(guī)則塊狀，塊狀大小可根據(jù)客戶要求）
     銠粉（根據(jù)客戶要求定做）