凈化工程潔凈空間的溫濕度主要是依據(jù)技術(shù)請求來斷定，但在滿意技術(shù)請求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度請求的進(jìn)步，出現(xiàn)了技術(shù)對溫濕度的請求也越來越嚴(yán)的趨勢。詳細(xì)技術(shù)對溫度的請求今后還要羅列，但作為總的準(zhǔn)則看，因?yàn)榧庸ぞ仍絹碓骄?，所以對溫度?dòng)搖規(guī)模的請求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路出產(chǎn)的光刻曝光技術(shù)中，作為掩膜板資料的玻璃與硅片的熱脹大系數(shù)的差請求越來越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就導(dǎo)致了0.24um線性脹大，所以必須有±0.1度的恒溫，一起請求濕度值通常較低，因?yàn)槿顺龊菇窈?，對商品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超越25度，濕度過高發(fā)生的問題更多。相對濕度超越55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，假如發(fā)生在精密設(shè)備或電路中，就會(huì)導(dǎo)致各種事端。相對濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片外表粘著的塵埃在外表難以清除。相對濕度越高，粘附的越難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時(shí)，又因?yàn)殪o電力的效果使粒子也簡單吸附于外表，一起大量半導(dǎo)體器材簡單發(fā)生擊穿。關(guān)于硅片出產(chǎn)最好濕度規(guī)模為35—45%