二次急冷非晶粉末廠家_日本真壁非晶粉末廠家
真空排気後、不活性ガスを溶解チャンバーに置換させた後、高周波誘導(dǎo)溶解により溶解した金屬を第一
段階としてガスで粉砕させます。次に、霧狀に液滴化させた金屬を第二段階として冷媒を供給した高速
回転しているディスク上に衝突させます。多段階的に溶解試料を粉砕及び急冷するためアモルファスや
ナノ結(jié)晶などの非平衡組織を有する微細(xì)粉末の作製にメリットを有します。



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