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[供應(yīng)]許昌快速紅外輻射鍍金聚焦?fàn)t
- 產(chǎn)品產(chǎn)地：河南許昌
- 產(chǎn)品品牌：許昌紅外
- 包裝規(guī)格：快速紅外輻射鍍金聚焦?fàn)t
- 產(chǎn)品數(shù)量：1000
- 計(jì)量單位：臺(tái)
- 產(chǎn)品單價(jià)：1000
- 更新日期：2018-09-20 15:15:50
- 有效期至：2019-09-20
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許昌快速紅外輻射鍍金聚焦?fàn)t
詳細(xì)信息
快速紅外輻射鍍金聚焦?fàn)t
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一、產(chǎn)品簡介：
我所以優(yōu)質(zhì)紅外發(fā)熱管為加熱元件，采用紅外線鏡面反射技術(shù)，成功研制出快速紅外輻射鍍金聚焦?fàn)t。該加熱裝置解決了傳統(tǒng)電爐升降溫速度慢、使用效率低等難點(diǎn)，控制部分采用智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制，爐體為雙層爐殼，采用水冷系統(tǒng)/風(fēng)冷系統(tǒng)，延長加熱元件壽命。
拋物線聚焦圖例
橢圓聚焦圖例
二、技術(shù)參數(shù)：
1、最高溫度：1700℃，長期使用溫度：1600℃（注：理論最高溫度和實(shí)際最高溫度取決于試樣材料。）
2、最高區(qū)間升溫速率：>280℃/s；
3、電壓功率：220（380）V；6-36kw；
4、加熱方式：紅外輻射加熱；
5、加熱區(qū)間：點(diǎn)、線（柱狀）、面加熱；
6、反射面冷卻方式：水冷；
7、控溫精度：±1℃；
8、溫度顯示精度：0.1℃；
9、控制方式：配備智能溫控儀表，可控硅控制，可實(shí)現(xiàn)30段程序控溫。
三、主要功能和特點(diǎn)：
1、可擴(kuò)展在真空/不同氣氛/不同環(huán)境下，對(duì)不同產(chǎn)品、樣品進(jìn)行快速熱處理；
2、溫控精度高；
3、適合高校、科研院所、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室使用；
4、操作方便，試樣裝取容易；
5、價(jià)格合理，性價(jià)比高。
四、主要用途：
1、電子材料
（1）硅（Si）和化合物半導(dǎo)體的實(shí)時(shí)分析器（RTA）；
（2）薄膜成型的熱源；
（3）離子注入后的激活器；
（4）硅化物成型的熱源。
2、陶瓷材料/無機(jī)材料
（1）陶瓷基片層壓板的退火爐；
（2）玻璃基片的退火爐；
（3）陶瓷拉伸、彎曲試驗(yàn)的退火爐；
（4）超導(dǎo)陶瓷的退火爐；
（5）陶瓷加熱、循環(huán)加熱試驗(yàn)的退火爐。
3、鋼制材料/金屬材料
（1）薄鋼板加熱過程分析爐；
（2）焊接分析爐；
（3）高溫（1000℃以下）真空加熱試驗(yàn)爐；
（4）大氣條件熔化過程分析爐；
（5）高壓下，難熔鋼和鋁循環(huán)加熱試驗(yàn)爐；
4、復(fù)合材料
（1）絕熱性評(píng)估測試用爐；
（2）無機(jī)化合物循環(huán)加熱試驗(yàn)爐。
5、其他
（1）高溫條件下，拉伸、壓縮試驗(yàn)用爐；
（2）分段控制爐；
（3）溫度梯度爐；
（4）析出氣體分析爐。
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