水鉆行業(yè)用去離子水的應(yīng)用用：
        真空鍍膜或電鍍液配置，水鉆的清洗，主要用超聲波配合高純度的去離子水清洗，以達(dá)到滿意效果。
      水鉆行業(yè)用水要求：
        1.水質(zhì)電阻率在15兆以上。
        2.基本不含其它雜質(zhì)離子。
        水鉆行業(yè)去離子水設(shè)備工藝主要有三種：
        第一種、傳統(tǒng)工藝，自來(lái)水——過(guò)濾器——陽(yáng)離子交換器——陰離子交換器——-混床——水箱——用水點(diǎn)
        此方法的優(yōu)點(diǎn)是投資少，出水水質(zhì)穩(wěn)定。缺點(diǎn)是操作復(fù)雜，樹(shù)脂需要再生，耗酸堿比較多，處理后的水質(zhì)中有機(jī)物部分顆粒雜質(zhì)不能去除?，F(xiàn)在基本沒(méi)有人用這種方法了。
        第二種、反滲透+混床
        自來(lái)水——砂過(guò)濾器——碳過(guò)濾——軟化器（或阻垢劑）——精密過(guò)濾器——RO反滲透——混床——水箱-用水點(diǎn)
        此工藝為目前最主要的工藝，廣泛應(yīng)用于水鉆等各個(gè)行業(yè)。
        優(yōu)點(diǎn)是RO反滲透的應(yīng)用，去除99%以上的離子，剩余部分用混床處理，相對(duì)再生較少，操作簡(jiǎn)單，出水水質(zhì)好，一般電阻率可達(dá)15-18兆歐。
        第三種、預(yù)處理——RO反滲透——EDI電離子系統(tǒng)。
        優(yōu)點(diǎn)：出水水質(zhì)好，無(wú)需再生，操作簡(jiǎn)單，安全環(huán)保無(wú)污染，自動(dòng)化控制。

我公司生產(chǎn)的去離子水設(shè)備主要用于制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像玻璃、顯像管、單晶硅半導(dǎo)體、純路板、液晶顯示器、計(jì)算計(jì)硬盤(pán)和集成電路芯片等工藝所需的純水 制取電力行業(yè)發(fā)電鍋爐和廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需的軟化水、除鹽水 制取醫(yī)藥行業(yè)所需的醫(yī)用大輸液、藥劑、生化制品純水、醫(yī)用無(wú)菌水和人工腎透析用純水 制取飲料（含酒類(lèi)）行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾不、酒類(lèi)生產(chǎn)勾純水以及啤酒糖化投料用水和純水啤酒過(guò)濾等 制取化工行業(yè)制造過(guò)程所需的工藝純水 制取紡織印染工藝所需的除硬鹽水 制取光學(xué)玻璃鍍膜前清洗用純水、超純水 制取電鍍工藝用去離子水、電池生產(chǎn)工藝用純水以及汽車(chē)、家電、建材產(chǎn)品表面涂裝和清洗用純水。