高中低溫脫硝設(shè)備哪里好


本產(chǎn)品是干燥粉末狀，在還原反應(yīng)過程中不會(huì)產(chǎn)生水蒸氣，而高分子碳骨架自然分解成CO2釋放，高中低溫脫硝設(shè)備哪里好?對(duì)鍋爐其他設(shè)施不會(huì)產(chǎn)生影響。PNCR工藝主要特點(diǎn)是工藝


系統(tǒng)簡單，運(yùn)行維護(hù)成本較低，固態(tài)粉末狀運(yùn)輸、儲(chǔ)存安全方便，無二次污染，脫硝率高。


高分子脫硝劑是整個(gè)HNCR技術(shù)的核心。脫硝劑是以高分子材料作為載體，把氨基成分聚合負(fù)載在高分子材料上，形成粉體狀材質(zhì)。本粉末材料利用氣力輸送裝置直接噴入爐膛中，噴射的溫度窗口在800~900℃之間，高溫下氨基和高分子連接的化學(xué)鍵斷裂，釋放出大量的含氨基官能團(tuán)，氨基與煙氣中NOx發(fā)生反應(yīng)，進(jìn)而達(dá)到脫除NOx目的。


高中低溫脫硝設(shè)備哪里好?


HNCR脫硝技術(shù)具有SCR和SNCR兩者的優(yōu)點(diǎn)，既具有SCR技術(shù)高的脫硝率又具有SNCR技術(shù)建設(shè)投資費(fèi)用低、運(yùn)行費(fèi)用低的優(yōu)勢(shì)，從而克服了兩者的缺點(diǎn)，具有廣闊


的應(yīng)用發(fā)展前景。


實(shí)驗(yàn)表明，當(dāng)投入適量高分子脫硝劑時(shí)，NOx濃度可控制在30mg/m3以下(地方標(biāo)準(zhǔn)是200mg/m3)?！绷硗?，這種設(shè)備比傳統(tǒng)技術(shù)設(shè)備占地面積小，設(shè)備一


次性投資也低，只有幾十萬元，運(yùn)行費(fèi)用是傳統(tǒng)技術(shù)的1/3左右。高中低溫脫硝設(shè)備哪里好?


但是，這種脫硝技術(shù)主要適用于750℃以上的鍋爐、爐窯，淄博陶瓷行業(yè)還有相當(dāng)一部分80℃~400℃的爐窯，還需要再找合適技術(shù)。


試驗(yàn)表明，這種低溫等離子脫硝技術(shù)和脫硫脫硝一體化技術(shù)可以使鍋爐、窯爐達(dá)到燃天然氣的排放水平，優(yōu)于地方的排放標(biāo)準(zhǔn)指標(biāo)。并且設(shè)備一次性投資和


運(yùn)行費(fèi)用都低于傳統(tǒng)技術(shù)。


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