轉印是間接法靜電盆印工藝流程中必須采取的步吸之一轉印效果對泣印品的質且
將產生一定形晌.而轉印率的高低和轉印效果的優(yōu)劣，又與轉印裝盆的緒構形式有宜按
的關系.因此.常握轉印裝世的結構特點扣了解維護、調整方法，實為正確使用協(xié)電義
印眺和提高紅印晶質公的且耍手段之一
、的電復印過怪中.轉印裝粗應悶足以下堵碩甚本要求.
      ·應能獲招址高的轉印率，保證色扮權耗最少.請沾裝置的負MR輕，
      ·在周皿環(huán)堆狀態(tài)YtH度和況度)有女化時，對轉印效果的影響旅小.
      ·轉印裝互應經久附用，安全可衰，
      .轉印裝且的站構應簡單，腸于維護和調盆，
      ·當dkzvLbAi和拓率有變化時，轉印裝理應往定，拍出特性應甚本不變.

  用于靜電復印的氧化鋅(ZnO)光導體膜層，要求具有高暗電Ii 1光電導竹能的粉宋
狀態(tài)的晶體粒子.
      氧化鋅的光導休膜層，是將粉末狀的氧化鋅分散在高阻粘合介質中的方法，制成的
乳劑(懸浮液).再將乳劑涂布在底基上(大多數情況是采用不同類型的紙做底基).待
千燥后即可使用。一般膜層厚度為205m左右.
      所用高阻粘合劑可采用不同類型的樹脂、膠、絕緣漆等，其中溶劑則用醇、醋、醚
等.
      靜電攝影膜層的高阻粘合劑的作用包括下面幾點:
          ·將氧化鋅粉末粒子均勻地固定在底基上.
      ·保護氧化鋅不受潮氣以及化學氣體的損害.
      ·能夠適當減少膜層中氧化鋅粉末的電導率，必須使枯合荊濃度級與級化鋅選定最
佳配比，以保證光電導性能的實現.
      氧化鋅的光導體膜層為N型光電導層，在單一氧化鋅膜層中，一般充負電荷，形成
敏化狀態(tài)下的負電荷以構成束縛在光導體層的表面勢壘，而暗衰減很低.
      實際應用中采用純氧化鋅制造的光導體膜層，僅在可見光譜區(qū)有很低的感光度.
      在某些氧化鋅膜層中用硫化錦和N一亞硝基二苯胺做為添加劑，可收封氧化鋅在可
見光區(qū)提高靈敏度的效果.